方向1：选择线性边线、直线、轴、或尺寸．如有必要，单击【反向】按钮来改变阵列的方向。
间距：为方向1设定阵列实例之间的间距。实例数：为方向1设定阵列实例之间的数量．此数量包括原有特征或选择。
方向2：以第二方向生成阵列。
阵列方向：为方向2阵列设定方向。
间距：为方向2设定阵列实例之间的间距。
实例数：为方向2设定阵列实例之间的数量。
只阵列源：只使用源特征而不复制方向1的阵列实例在方向2中生成线性阵列。
要阵列的特征：使用所选择的特征作为源特征来生成阵列．要阵列的面：使用构成源特征的面生成阵列．在图形区域中选择源特征的所有面．这对于只输入构成特征的面而不是特征本身的模型很有用。
注意：当使用要阵列的面时，阵列必须保持在同一面或边界内．它不能跨越边界．例如，横切整个面或不同的层〈如凸起的边线〉将会生成一条边界和单独的面，阻止阵列延伸。
要阵列的实体：使用在多实体零件中选择的实体阵列。
可跳过的实例：在生成阵列时跳过在图形区域中选择的阵列实例．当鼠标移动到每个阵列实例时，单击可以选择阵列实例。阵列实例的坐标出现在图形区域中及可跳过的实例之下。若想恢复阵列实例，再放单击图形区域中的实例标号。
随形变化：允许重复时阵列更改．几何体阵列：只使用特征的几何 体〈面和边线〉米生成阵列，而 不阵列和求解特征的每个实例．几何体阵列选项可以加速阵列的生成及重述。对于与棋型上其他面共用一个面的特征，您不能使用几何体阵列选项．延伸视象属性：将SolidWorks的颜色、纹理和装饰螺纹数据延伸给所有阵列实例。